+8613140018814

Tipus comuns i tècniques de preparació de materials objectiu

Apr 02, 2024

Un objectiu és un material utilitzat en experiments científics, processament industrial o altres aplicacions tècniques, principalment per absorbir, reflectir o canviar la direcció i les propietats dels fluxos de partícules, raigs o ones electromagnètiques. Els tipus comuns inclouen objectius metàl·lics, objectius ceràmics, objectius d'aliatge i objectius compostos. Cada tipus té les seves pròpies propietats físiques i químiques específiques i és adequat per a diferents escenaris d'aplicació.
1.Classificar
(1) Objectius metàl·lics
S'utilitza àmpliament per la seva excel·lent conductivitat elèctrica i tèrmica. Com ara el coure, l'alumini, el titani, etc., que s'utilitzen sovint en la tecnologia de recobriment per evaporació del feix d'electrons i sputtering.
(2) Material objectiu ceràmic
Les dianes ceràmiques són afavorides pel seu alt punt de fusió, resistència a la corrosió i estabilitat química. Com l'alúmina, el nitrur de silici, àmpliament utilitzat en ambients d'alta temperatura i corrosius.
(3) Material objectiu d'aliatge
En combinar diferents elements metàl·lics, els objectius d'aliatge combinen els avantatges de diversos metalls. Com ara acer inoxidable, llautó, per a aplicacions electròniques o òptiques específiques.
(4) Material objectiu compost
Aquest tipus d'objectiu aconsegueix excel·lents propietats globals combinant dos o més materials. Els compostos reforçats amb nanotubs de carboni, per exemple, s'utilitzen en aplicacions lleugeres i d'alta resistència.
(5) Objectius de terres rares i materials especials:
Aquests objectius s'utilitzen per a aplicacions especials a causa de les seves propietats físiques i químiques úniques. Com l'element de terres rares neodimi, utilitzat en la fabricació d'aliatges especials i materials magnètics forts.
2. Procés de preparació
(1) Tecnologia de la metal·lúrgia de pols
Aplicació: Apte per a la preparació de dianes ceràmiques i alguns aliatges especials.
Procés: la matèria primera en pols es barreja, es premsa per formar i després es sinteritza a alta temperatura.
Avantatges: pot produir objectius amb formes complexes i composició uniforme, que és adequat per a aplicacions que requereixen alta precisió.
(2) Tecnologia de fosa
Aplicació: s'utilitza principalment per a la preparació d'objectius metàl·lics, com ara coure, alumini, etc.
Procés: consisteix a escalfar la matèria primera per sobre del punt de fusió i després refredar-la segons un procediment de refredament específic per formar l'estructura cristal·lina desitjada.
Característiques: es pot aconseguir una producció en massa, però la velocitat de refrigeració i l'entorn s'han de controlar estrictament per evitar defectes del material.
(3) Dipòsit de vapor químic (CVD)
Aplicació: s'utilitza per preparar objectius de pel·lícula fina, com ara pel·lícula de silici, pel·lícula d'òxid metàl·lic, etc.
Tècnica: es forma una pel·lícula homogènia sobre el substrat per reacció química.
Característiques: el gruix i la composició de la pel·lícula es poden controlar amb precisió, però l'equip i el procés són més complexos.
(4) Deposició física de vapor (PVD)
Aplicació: També és adequat per a la preparació d'objectius de pel·lícula fina, especialment pel·lícules metàl·liques i d'aliatge.
Procés: els mètodes físics (com ara la polsadora o l'evaporació) formen una pel·lícula fina sobre el substrat.
Avantatges: Adequat per a la preparació de materials d'alta puresa, pot aconseguir un millor control de qualitat de la pel·lícula.
(5) Tecnologia de formació per làser
Innovació: Preparació d'objectius per a formes i estructures complexes, especialment en prototips i producció en petita sèrie.
Avantatges: Alta precisió i flexibilitat per produir objectius directament a partir de models informàtics.
(6) Mètode electroquímic
Aplicació: Apte per a la preparació d'objectius de metalls i aliatges específics.
Característiques: el material es diposita mitjançant el procés electrolític, que es pot dur a terme a una temperatura més baixa, la qual cosa afavoreix el manteniment de la puresa química del material.
La selecció de l'objectiu adequat requereix tenir en compte l'escenari d'aplicació, les propietats físiques i químiques necessàries i la rendibilitat. La tendència actual és millorar la puresa i la uniformitat del material objectiu, reduir els defectes de fabricació i desenvolupar mètodes de preparació més respectuosos amb el medi ambient i rendibles. La nostra empresa pot proporcionar objectius de metall d'alta puresa o altres objectius d'aliatge, si ho necessiteu, envieu un correu electrònic per contactar-nos.

Boron B Sputtering Targets

Chromium Planar Sputtering Target

Silver Sputter Targets

Zirconium Round Sputtering Targets

Enviar la consulta