Sputtering Target és un tipus especial de material, utilitzat principalment en la indústria del recobriment de pel·lícules i recobriments al buit. La nostra empresa té una bona relació de cooperació amb els clients de Singapur en objectius de metall. El client de Singapur, que anteriorment havia parlat molt bé de la nostra obra metàl·lica, ens va demanar un lot de Copper Sputtering Target. Ens hem comunicat amb el client durant algun temps sobre la mida del producte, la quantitat de la comanda, el preu i el termini de lliurament.
Hem organitzat la producció directament després de confirmar la recepció del pagament. Utilitzem coure metàl·lic d'alta puresa en la selecció de materials i mitjançant processos de producció de sinterització, fusió, laminació, forja, tractament tèrmic i mecanitzat a alta temperatura. Els objectius de pulverització de coure (Cu) són adequats per a la catòfora bipolar de CC, triple, quadripol, sputtering de raigs iònics o processament de magnetrons, amb alta puresa, excel·lent conductivitat elèctrica i tèrmica, resistència a alta temperatura, alta eficiència de producció i llarga vida útil. Els objectius de coure d'alta puresa també s'utilitzen sovint com a materials de placa posterior per a altres objectius, no només per reduir la temperatura de funcionament i la pèrdua de resistència de l'objectiu, sinó també per millorar la distribució del camp electromagnètic de l'objectiu, donant com a resultat una polsamització més uniforme i estesa. vida útil.
Un cop finalitzada la producció, definitivament realitzarem un control de qualitat i una inspecció, i després empaquetar i enviar. Hem lliurat el producte amb èxit al lloc de recepció designat pel client a Singapur dins del període de lliurament en bones condicions. El client està molt satisfet amb la nostra qualitat del producte i l'actitud del servei, i va dir que si hi ha necessitat de tornar a contactar amb nosaltres.
