+8613140018814
Objectius de pulverització planar de silici de titani
video
Objectius de pulverització planar de silici de titani

Objectius de pulverització planar de silici de titani

Objectius de pulverització plana de silici de titani Descripció El siliciur de titani és un compost inorgànic que normalment es produeix mitjançant la utilització de tècniques de silici en línies de silici i polisilici per reduir la resistència de la làmina de les connexions de transistors locals. Sputtering planar de silici de titani...
Enviar la consulta
Product Details ofObjectius de pulverització planar de silici de titani

Descripció dels objectius de pulverització plana de silici de titani

El siliciur de titani és un compost inorgànic que es produeix normalment mitjançant la utilització de tècniques de silici en línies de silici i polisilici per reduir la resistència de la làmina de les connexions de transistors locals. Els objectius de pulverització planar de silici de titani es produeixen generalment amb tecnologia HIP avançada, que té una sèrie d'avantatges com ara una gran duresa, baix desgast, excel·lent resistència al xoc tèrmic, gran puresa, gra fi i uniforme, llarga vida útil, alta resistència a l'oxidació i alt recobriment. qualitat. Els objectius planars de silici de titani són un material excel·lent per al recobriment metàl·lic. Les eines de maquinari recobertes per ella són molt resistents al desgast, de manera que poden treballar a altes velocitats de tall i fins i tot poden processar aliatges de níquel molt durs i materials de titani. Els objectius de pulverització plana de silici de titani també són molt adequats per a l'aplicació a la indústria de semiconductors, decoració, visualització, dispositius LED i fotovoltaics, recobriment de vidre i altres indústries.

Especificacions dels objectius de pulverització plana de silici de titani:

Grau

Ti85Si15, Ti80Si20, Ti75Si25, Ti70Si30, etc.

Tècnica

Premsat isostàtic en calent, soldadura, sinterització, forja, recuit

Puresa

99,8 per cent

Gruix

3 mm-30mm

Llargada

10 mm-2000mm

Diàmetre circular

50-100mm

Densitat

4.17-4.4.g/cm3

Tipus

Objectiu de pulverització plana

Forma

Discs, plaques, objectius de columna, objectius de pas, fets a mida

Superfície

Polit, neteja alcalina, mòlta, òxid negre, etc.

Certificació

ISO9001

Imatges d'objectius planars de silici de titani:

Titanium Silicon Planar Sputter Target

Titanium Silicon Sputtering Target

Etiquetes populars: objectius de pulverització plana de silici de titani, proveïdors, fabricants, fàbrica, personalitzats, a l'engròs, preu, cotització, en venda

Enviar la consulta

(0/10)

clearall