Nb2O5 Sputtering Target és un objectiu pla fet de material d'òxid de niobi mitjançant un procés de metal·lúrgia en pols. La pel·lícula d'òxid que forma és de qualitat uniforme no reaccionarà amb altres substàncies de l'aire i té un efecte protector durador. Nb2O5 Sputtering Target s'utilitza principalment en materials d'enginyeria de superfícies, com ara la construcció naval, la indústria química, la pantalla de cristall líquid (LCD) i les indústries de recobriments resistents a la calor, resistents a la corrosió i altament conductors, indústria solar de pel·lícula fina, indústria del vidre de baixa emissivitat. , indústria de pantalla plana, indústria de recobriments òptics, indústria d'eines i recobriments decoratius.

Nb2O5 Característiques de l'objectiu de pulverització

1. Propietats òptiques: la pel·lícula d'òxid de niobi té excel·lents propietats òptiques, una petita pèrdua de guia d'ona òptica i un excel·lent rendiment electrocròmic. Aquest material es pot utilitzar per produir productes de recobriment òptic d'alt rendiment.

2. Estabilitat química i propietats elèctriques

L'òxid de niobi té una bona estabilitat química i propietats elèctriques i és adequat per a aplicacions que requereixen una alta estabilitat i una conductivitat excel·lent.

3. Rendiment a alta temperatura: l'òxid de niobi té un punt de fusió molt alt, que li permet mantenir un bon rendiment en ambients d'alta temperatura.

4. Alta puresa i consistència La puresa dels objectius de niobi pot arribar a més del 99,95%, amb una mida de gra petita, una bona estructura de recristal·lització i una bona consistència triaxial. Això fa que la qualitat de la pel·lícula d'òxid produïda sigui uniforme i el rendiment sigui estable.

Nb2O5 Aplicació d'objectius de pulverització

1. Recobriment òptic: en la producció de vidre òptic d'alt rendiment i indústries de pantalla plana. S'utilitza per fabricar filtres d'interferència òptica, pel·lícules electroquímiques, sensors de gas, etc.

2. Indústria de pantalla plana: s'utilitza per produir pel·lícules AR (anti-reflex i anti-reflex), que poden augmentar significativament la transmissió de la llum dels dispositius de visualització, reduir la reflexió i fer que les imatges siguin més clares.

3. Cèl·lules solars: el sistema de pel·lícula elèctrica que s'utilitza per fabricar cèl·lules solars de pel·lícula fina ajuda a millorar l'eficiència de les cèl·lules solars.

4. Tecnologia d'emmagatzematge de disc dur: en el desenvolupament de discs durs d'alta densitat i gran capacitat, s'utilitzen materials de pel·lícules magnetoresistives gegants. Aquests materials tenen un paper clau en el rendiment de lectura i escriptura dels discs durs.

5. Revestiment de vidre arquitectònic i d'automoció: recobriment utilitzat per a vidre arquitectònic i d'automoció per millorar la resistència UV i les propietats d'aïllament tèrmic d'aquests materials.

Especificacions de l'objectiu de polverització Nb2O5:

Material	Nb2O5
Aparença	Sòlid cristal·lí, gris-negre
Puresa	Nb Superior o igual al 99,95%
Densitat	4,47 g/cm³
Mida	450 x 300 x 12 mm
Gruix	1-20mm
Punt de fusió	1512 graus (2754 graus F)
Forma	Plaques, objectius de pas
Certificació	ISO9001

Imatge de l'objectiu de pulverització de Nb2O5

Niobium Oxide Nb2O5 Sputtering Targets

Niobium Oxide Target

Etiquetes populars: Nb2o5 sputtering target, proveïdors, fabricants, fàbrica, personalitzat, a l'engròs, preu, pressupost, a la venda

Nb2O5 Objectiu de pulverització

Especificacions de l'objectiu de polverització Nb2O5: