Objectiu de pulverització de zirconi

Descripció de l'objectiu de pulverització de zirconi

A més dels productes de titani, els materials de zirconi també són un dels materials preferits en els recobriments d'eines. És fàcil formar una pel·lícula de zirconi estable a la superfície i té una forta resistència a la corrosió (resistència àcid i àlcali). El zirconi Sputter Target es fa sovint mitjançant un procés de metal·lúrgia en pols, amb baixa densitat, alta resistència específica, resistència a la corrosió, resistència a la radiació, excel·lent resistència al desgast, excel·lent rendiment de processament, no tòxic, no magnètic, petita secció transversal d'absorció de neutrons tèrmics, etc. Característiques de la sèrie. El zirconi Sputter Target s'ha utilitzat àmpliament en el camp del recobriment PVD i s'utilitza sovint en indústries espacials d'emmagatzematge d'informació òptica, com ara la deposició de pel·lícules primes, piles de combustible, decoració, semiconductors, pantalles de visualització i recobriments funcionals. FANMETAL pot oferir als clients objectius de pulverització de zirconi com ara objectius plans, rodons o amb forma especial, i oferirà serveis d'alta qualitat amb una velocitat i un preu satisfactoris.

Especificacions de l'objectiu de pulverització de zirconi:

Imatges de l'objectiu de pulverització de zirconi:

Etiquetes populars: objectiu de pulverització de zirconi, proveïdors, fabricants, fàbrica, personalitzat, a l'engròs, preu, pressupost, a la venda