Objectiu d'òxid de niobi

Descripció de l'objectiu d'òxid de niobi

La tecnologia de pulverització permet que es dipositen pel·lícules de metall o òxid de puresa ultra alta sobre un altre substrat sòlid. Les pel·lícules de Nb2O5 es preparen mitjançant sputtering i s'explora l'aplicació de materials d'òxid de niobi en dielèctrics d'alt dielèctric, recobriments antireflectants i materials sensibles al gas. L'objectiu d'òxid de niobi està fet generalment de material de pentòxid de niobi mitjançant el processament de la metal·lúrgia en pols o la tecnologia de pols de magnetrón. Té una alta densitat, alta puresa, mida mitjana mínima del gra, bona estabilitat electroquímica i característiques de transmissió electrònica, alt índex de refracció i baixa dispersió, resistència a alta temperatura, resistència a la corrosió, durabilitat i altres excel·lents propietats físiques i químiques.

L'objectiu d'òxid de niobi no només es pot utilitzar per preparar pel·lícules d'òxid de niobi, nanofills i altres nanoestructures d'alta qualitat, sinó també per preparar dispositius electroquímics com ara cèl·lules solars eficients i bateries d'ions de liti, així com per preparar protecció tèrmica i resistents a la corrosió. materials de recobriment.

Especificacions de l'objectiu d'òxid de niobi:

Imatges objectiu d'òxid de niobi

Etiquetes populars: objectiu d'òxid de niobi, proveïdors, fabricants, fàbrica, personalitzat, a l'engròs, preu, pressupost, a la venda