Objectius de pulverització d'òxid de zinc d'alumini

Objectius de pulverització d'òxid de zinc d'alumini Amb el desenvolupament de pel·lícules conductores transparents, els objectius AZO (Al2O3-ZnO), que poden substituir l'ITO, s'han utilitzat àmpliament. La pel·lícula conductora transparent AZO té un interval de banda de 3,4 eV i un límit d'absorció intrínsec de 360 nm, que es pot utilitzar com a material de capa de finestra per a bateries de pel·lícula-fina. La seva característica de banda ampla pot reduir l'absorció de llum per regions dopades de tipus p, n-i millorar la taxa d'utilització de l'energia lumínica. Al mateix temps, la pel·lícula conductora transparent AZO té una baixa resistivitat i una alta transmissió de la llum visible, la qual cosa la converteix en un bon material de capa transparent frontal. Al mateix temps, AZO també té les característiques d'alta estabilitat del plasma, tecnologia de preparació fàcil i matèries primeres no-tòxiques i inofensives, fent que AZO sigui més àmpliament utilitzat en el camp de les cèl·lules solars de pel·lícula prima.

Imatge d'objectius de pulverització d'òxid de zinc d'alumini:

Aluminum Zinc Oxide Sputtering Targets

AZO Sputtering Target

La nostra empresa pot oferir als clients objectius AZO d'alta-puresa, alta-densitat i organitzats de manera uniforme, així com el servei d'enllaç d'objectius AZO i plaques posteriors.

Tipus	nom del producte	Fórmula	Puresa	Punt de fusió	Densitat (g/cc)	Formes disponibles
Òxids	Òxid d'alumini	Al2O3	4N	2045	4	Objectiu, partícula
	Òxid de bismut (III).	Bi2O3	4N	820	8.9	Objectiu, partícula
	Òxid de crom (III).	Cr2O3	4N	2435	5.2	Objectiu, partícula
	Òxid d'erbi	Er2O3	4N	2378	8.64	Objectiu, partícula
	Òxid d'hafni	HfO2	4N	2812	9.7	Objectiu, partícula
	Òxid d'Indi Estany	ITO	4N	1565	7.6	Objectiu
	Òxid de magnesi	MgO	4N	2800	3.58	Objectiu, partícula
	Pentòxid de niobi	Nb2O5	4N	1530	4.47	Objectiu, partícula
	Òxid de neodimi (III).	Nd2O3	4N	2272	7.2	Objectiu, partícula
	Òxid de níquel	NiO	4N	1990	7.45	Objectiu, partícula
	Òxid d'escandi	Sc2O3	4N	2480	3.86	Objectiu, partícula
	Òxid de silici	SiO	4N	1702	2.13	Objectiu, partícula
	Diòxid de silici	SiO2	4N	1610	2.2	Objectiu, partícula, cristall
	Òxid de samari (III).	Sm2O3	4N	2350	7.4	Objectiu, partícula
	Pentòxid de tantal	Ta2O5	4N	1800	8.7	Objectiu, partícula
	Diòxid de titàni	TiO2	4N	1800	4.29	Objectiu, partícula
	Òxid de titani (V).	Ti3O5	4N	1750	4.57	Objectiu, partícula
	Òxid de vanadi (V).	V2O5	4N	690	3.36	Objectiu, partícula
	Òxid d'itri (III).	Y2O3	4N	2680	4.8	Objectiu, partícula
	Òxid de zinc	ZnO	4N	1975	5.6	Objectiu, partícula
	Òxid de zinc-dopat amb alumini	AZO	4N	\	5.4	Objectiu
	Diòxid de zirconi	ZrO2	4N	2700	5.5	Objectiu, partícula
Fluorur	Fluorur de bari	BaF2	4N	1280	4.8	Objectiu, partícula
	Fluorur de calci	CaF2	4N	1360	3.13	Objectiu, partícula
	Fluorur de ceri	CeF3	4N	1418	6.16	Objectiu, partícula
	Fluorur de potassi	KF	4N	880	2.48	Objectiu, partícula
	Fluorur de lantà (III).	LaF3	4N	1490	6	Objectiu, partícula
	Fluorur de magnesi	MgF2	4N	1266	4.2	Objectiu, partícula
	Fluorur de sodi	NaF	4N	988	2.79	Objectiu, partícula
Altres	Titanat de bari	BaTiO3	4N	1620	3.96	Objectiu, partícula
	Titanat d'Estronci	SrTiO3	4N	2080	5.12	Objectiu, partícula
	Sulfur de zinc	ZnS	4N	1830	4.1	Objectiu, partícula
	Nitrur de silici	Si3N4	4N	sublimació	3.44	Objectiu, partícula
	Nitrur de titani	TiN	4N	2950	5.43	Objectiu, partícula
	Nitrur d'alumini	AlN	4N	sublimació	3.26	Objectiu, partícula
	Nitrur de Bor	BN	4N	3000	2.25	Objectiu, partícula
	Carbur de Slilicon	SiC	4N	2700	3.22	Objectiu

Etiquetes populars: Objectius de pulverització d'òxid de zinc d'alumini, proveïdors, fabricants, fàbrica, personalitzats, a l'engròs, preu, cotització, en venda