L'objectiu de sputtering es refereix a la matèria primera utilitzada en el procés de deposició de sputtering, que es refereix al procés d'expulsió d'àtoms de l'objectiu sòlid a causa del bombardeig de l'objectiu per partícules d'alta energia, i la seva funció principal és dipositar una pel·lícula fina. a la peça de treball. A finals de febrer, vam lliurar als nostres clients alemanys de forma segura i ràpida per express internacional els objectius de titani d'alumini d'alta qualitat produïts per nosaltres. Els clients alemanys sempre han estat satisfets amb els productes metàl·lics que oferim i estan disposats a comunicar-se amb nosaltres a nivell tècnic. Les especificacions de preu i mida dels productes també compleixen els seus requisits. Els objectius de polverització d'alumini de titani es poden subministrar amb substrats de coure o processar-se en altres substrats metàl·lics si cal.
L'objectiu de pulverització d'aliatge d'alumini de titani és un objectiu molt utilitzat, que es pot produir mitjançant el mètode de fosa i el mètode de premsat isostàtic en calent. Té una alta qualitat, alta puresa, estructura uniforme, llarga vida útil, bona resistència a la corrosió, alta conductivitat tèrmica i preu competitiu i altres avantatges. Els objectius de polverització de titani alumini s'utilitzen més habitualment en recobriments decoratius. Poden dipositar pel·lícules amb bona duresa, alta brillantor, resistència a la corrosió, resistència a l'oxidació i resistència a la decoloració. S'utilitzen àmpliament en recobriments d'eines de maquinari, recobriments decoratius i recobriments de pantalla plana. processament de capes, PVD i CVD, components de semiconductors i diverses màquines de polverització de magnetrons i màquines de revestiment d'ions. FANMETL també pot proporcionarObjectiu de pulverització d'aliatge de silici d'alumini, Objectiu de pulverització de níqueli Chromium Sputtering Target i altres productes de metall sputtering target.
