Objectiu de pulverització de platí

FANMETAL subministra l'objectiu de sputtering de platí i altres objectius de sputtering de metalls preciosos utilitzats en el sistema de recobriment PVD. Com ara l'objectiu de sputtering d'or Au, l'objectiu de sputtering de plata Ag, l'objectiu de sputtering de platí Pt, l'objectiu de sputtering d'iridi Ir, l'objectiu de sputtering de ruteni ruteni.

Especificació per a l'objectiu de pulverització de platí (Pt).

nom del producte	Objectius de pulverització de platí
Codi de l'ítem	ST-PE78
Puresa	99,95 per cent -99,99 per cent
Forma	Discs, plaques, objectius de columna, objectius de tubs, fets a mida-
Dimensions	Objectiu de pulverització rodona: Diàmetre:<18", thickness:="">0.04" Objectiu de pulverització rectangular: Llargada:<36", width:=""><12", thickness:="">0.04"
Vinculació	Indi

Imatge de l'objectiu de pulverització de platí

platinum-sputtering-target39169653387

platinum-sputtering-target39164983412

nom del producte	Element	Puresa	Grau de punt de fusió	Densitat (g/cc)	Formes disponibles
Astilla alta pura	Ag	4N-5N	961	10.49	Filferro, làmina, partícula, objectiu
Alumini alt pur	Al	4N-6N	660	2.7	Filferro, làmina, partícula, objectiu
Or pur alt	Au	4N-5N	1062	19.32	Filferro, làmina, partícula, objectiu
Bismut alt pur	Bi	5N-6N	271.4	9.79	Partícula, objectiu
Cadmi pur alt	Cd	5N-7N	321.1	8.65	Partícula, objectiu
Alt Cobalt Pur	Co	4N	1495	8.9	Partícula, objectiu
Alt crom pur	Cr	3N-4N	1890	7.2	Partícula, objectiu
Coure alt pur	Cu	3N-6N	1083	8.92	Filferro, làmina, partícula, objectiu
Alt Pur Ferro	Fe	3N-4N	1535	7.86	Partícula, objectiu
Germani alt pur	Ge	5N-6N	937	5.35	Partícula, objectiu
Indi pur alt	En	5N-6N	157	7.3	Partícula, objectiu
Magnesi pur alt	Mg	4N	651	1.74	Filferro, partícula, objectiu
Magnesi pur alt	Mn	3N	1244	7.2	Filferro, partícula, objectiu
Molibdè pur alt	Mo	4N	2617	10.22	Filferro, làmina, partícula, objectiu
Niobi pur alt	Nb	4N	2468	8.55	Fil, objectiu
Níquel alt pur	Ni	3N-5N	1453	8.9	Filferro, làmina, partícula, objectiu
Plom alt pur	Pb	4N-6N	328	11.34	Partícula, objectiu
Paladi pur alt	Pd	3N-4N	1555	12.02	Filferro, làmina, partícula, objectiu
Platí pur alt	Pt	3N-4N	1774	21.5	Filferro, làmina, partícula, objectiu
Silici pur alt	Si	5N-7N	1410	2.42	Partícula, objectiu
Llauna Alta Pura	Sn	5N-6N	232	7.75	Filferro, partícula, objectiu
Tantal pur alt	Ta	4N	2996	16.6	Filferro, làmina, partícula, objectiu
Tel·luri pur alt	Te	4N-6N	425	6.25	Partícula, objectiu
Titani alt pur	Ti	4N-5N	1675	4.5	Filferro, partícula, objectiu
Tungstè pur alt	W	3N5-4N	3410	19.3	Filferro, làmina, partícula, objectiu
Zinc Alt Pur	Zn	4N-6N	419	7.14	Filferro, làmina, partícula, objectiu
Zirconi pur alt	Zr	4N	1477	6.4	Filferro, làmina, partícula, objectiu

Els objectius de pulverització d'alta-puresa i alta-densitat inclouen:

Objectiu de sputtering (puresa: 99,9 per cent -99,999 per cent)

1. Objectiu metàl·lic:

Objectiu de níquel, Ni, objectiu de titani, Ti, objectiu de zinc, Zn, objectiu de crom, Cr, objectiu de magnesi, Mg, objectiu de niobi, Nb, objectiu d'estany, Sn, objectiu d'alumini, Al, objectiu d'indi, In, objectiu de ferro, Fe, Objectiu d'alumini de zirconi, ZrAl, objectiu d'alumini de titani, TiAl, objectiu de zirconi, Zr, objectiu de silici d'alumini, AlSi, objectiu de silici, Si, objectiu de coure Cu, objectiu de tàntal T, a, objectiu de germani, Ge, objectiu de plata, Ag, objectiu de cobalt , Co, objectiu d'or, Au, objectiu de gadolini, Gd, objectiu de lantà, La, objectiu d'itri, Y, objectiu de ceri, Ce, objectiu de tungstè, w, objectiu d'acer inoxidable, objectiu de níquel-crom, NiCr, objectiu d'hafni , Hf, dianes de molibdè, objectius de pols de metall com ara objectius de Mo, Fe-Ni, FeNi, objectius de tungstè i objectius W.

Etiquetes populars: objectiu de pulverització de platí, proveïdors, fabricants, fàbrica, personalitzat, a l'engròs, preu, pressupost, a la venda