Casa/Productes/ Objectiu de pulverització/

Objectiu de polverització metàl·lica

Objectiu de pulverització de crom d'alta puresa

Descripció de l'objectiu de crom d'alta puresa El crom és un metall de transició de color gris acer, brillant, dur i trencadís. L'objectiu de crom d'alta puresa es produeix generalment mitjançant

Afegeix a la consulta
Objectius de sputtering amb 99,5% de bor

Objectius de sputtering amb bor 99,5% Descripció L'objectiu de recobriment és una font de sputtering que forma diverses pel·lícules funcionals al substrat mitjançant sputtering en condicions de

Afegeix a la consulta
Objectius de pulverització de molibdè (Mo).

Objectius de pulverització de molibdè (Mo) Descripció Com a tecnologia de preparació de material de pel·lícula fina d'avantguarda, la pulverització té dues característiques: alta velocitat i

Afegeix a la consulta
Objectiu metàl·lic de titani

Titanium Metal Target Descripció Titanium Metal Target es fabrica principalment pel mètode de fosa de refrigeració per feix d'electrons. Té una puresa elevada, una alta resistència específica, una

Afegeix a la consulta
Objectius de pulverització de metalls de níquel

Objectius de pulverització de metalls de níquel Descripció A la indústria, el níquel s'utilitza habitualment en la preparació d'aliatges, la producció de bateries i com a catalitzador. Especialment

Afegeix a la consulta
Objectius de pols de metall cromat

Objectius de crom metall Sputter Descripció El crom té un alt punt de fusió i una bona resistència a l'oxidació, cosa que permet que l'objectiu de crom es mantingui estable en ambients d'alta

Afegeix a la consulta
Objectiu de pulverització d'aliatge de titani TiAl

Objectiu de sputtering d'aliatge de titani TiAl Descripció L'objectiu de sputtering es refereix a la matèria primera utilitzada en el procés de deposició per sputtering. Es refereix al procés en què

Afegeix a la consulta
Objectius PVD d'aliatge d'alumini de titani

Objectius de PVD d'aliatge d'alumini de titani Descripció L'objectiu de recobriment és una font de pulverització que forma diverses pel·lícules funcionals al substrat mitjançant la pulverització en

Afegeix a la consulta
Objectiu de pulverització rodona de bor

Objectiu de pulverització rodona de bor Descripció L'objectiu de pulverització rodona de bor és un material utilitzat per a la preparació de pel·lícules. Està fabricat amb materials de borur

Afegeix a la consulta
Objectiu de pulverització plana de crom

Característiques i aplicació de l'objectiu de pulverització plana de crom L'element de crom original s'ha de purificar mitjançant una sèrie de processos, com ara la fosa a alta temperatura, el

Afegeix a la consulta
Objectiu de pulverització de crom del 99,95 per cent

99,95 per cent de crom Sputtering Objectiu Característiques i aplicació El 99,95 per cent de crom Sputtering Target és un objectiu de metall d'alta puresa, que es pot utilitzar per revestir diversos

Afegeix a la consulta
Objectius rodons de pols de crom

Objectius rodons de pulverització de crom Descripció El metall de crom s'utilitza principalment com a matèria primera per a la producció de diversos aliatges. La producció industrial de crom metall

Afegeix a la consulta

Som coneguts com un dels principals fabricants i proveïdors d'objectius de pols de metall a la Xina. Si vas a comprar un objectiu de polverització metàl·lica d'alta qualitat amb un preu competitiu, benvingut a obtenir un pressupost de la nostra fàbrica. A més, hi ha un servei personalitzat.

(0/10)